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PVD鍍膜的具體原理是什么？
時(shí)間：2019-02-18 08:40
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來源：互聯(lián)網(wǎng)
物理氣相沉積是一種物理氣相反應(yīng)生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或?yàn)R射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。